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ATR-IR Attenuated Total Reflection Infrared Spectroscopy
CaP Phosphates de calcium
CaP-Si Phosphates de calcium silicatés
CS Cover Slip
DC Direct Curent
DRX Diffraction de Rayons X
EDS Spectroscopie de Dispersion d’Energie
FCP Sérum Foetal Bovin
FTIR Fourier Transformed Infrared spectroscopy – Spectroscopie Infrarouge
FWHM durée de l’impulsion laser Full-Width at Half-Maximum
HA Hydroxyapatite
HA-Si Hydroxyapatite Silicatée
ICP-AES Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy – spectroscopie
d’émission atomique
IR Infrarouge
JCPDS Joint Committee and Powder Diffraction Standards
KrF* excimère - Krypton Fluorure
M1 Mélange 1 de type : Ca3(PO4)2 – CaCO3 – SiO2
M2 Mélange 2 de type : Ca2P2O7 – CaCO3 – SiO2
M3 Mélange 3 de type Ca3(PO4)2 – CaCO3 – CaSiO3
M4 Mélange 4 de type Ca2P2O7 – CaCO3 – CaSiO3
MEB Microscopie Electronique à Balayage
MTS sel de tetrazolium [3-(4,5-di méthyle thiazole-2-il)-5-(3-carboxi métoxi fenil)-
2-(4-sulfo fenil)-2H
OA Oxyapatite
OHA Oxyhydroxyapatite
PBS Phosphate Buffer Saline
PLD ablation laser (Pulsed Laser Deposition)
PMMA Polyméthylméthacrylate
pNPP p-Nitrophenol Phosphate
RF-MS pulvérisation magnétron radio fréquence (Radio Frequency Magnetron
Sputtering)
SBF Simulated Body Fluid
Sc Silicocarnotite
TA6V alliage de titane : Ti- 6Al- 4V
TCP Phosphate Tricalcique
TCPa Phosphate Tricalcique Apatitique
TCPam Phosphate Tricalcique Amorphe
TTCP Phosphate Tetracalcique
CaP Phosphates de calcium
CaP-Si Phosphates de calcium silicatés
CS Cover Slip
DC Direct Curent
DRX Diffraction de Rayons X
EDS Spectroscopie de Dispersion d’Energie
FCP Sérum Foetal Bovin
FTIR Fourier Transformed Infrared spectroscopy – Spectroscopie Infrarouge
FWHM durée de l’impulsion laser Full-Width at Half-Maximum
HA Hydroxyapatite
HA-Si Hydroxyapatite Silicatée
ICP-AES Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy – spectroscopie
d’émission atomique
IR Infrarouge
JCPDS Joint Committee and Powder Diffraction Standards
KrF* excimère - Krypton Fluorure
M1 Mélange 1 de type : Ca3(PO4)2 – CaCO3 – SiO2
M2 Mélange 2 de type : Ca2P2O7 – CaCO3 – SiO2
M3 Mélange 3 de type Ca3(PO4)2 – CaCO3 – CaSiO3
M4 Mélange 4 de type Ca2P2O7 – CaCO3 – CaSiO3
MEB Microscopie Electronique à Balayage
MTS sel de tetrazolium [3-(4,5-di méthyle thiazole-2-il)-5-(3-carboxi métoxi fenil)-
2-(4-sulfo fenil)-2H
OA Oxyapatite
OHA Oxyhydroxyapatite
PBS Phosphate Buffer Saline
PLD ablation laser (Pulsed Laser Deposition)
PMMA Polyméthylméthacrylate
pNPP p-Nitrophenol Phosphate
RF-MS pulvérisation magnétron radio fréquence (Radio Frequency Magnetron
Sputtering)
SBF Simulated Body Fluid
Sc Silicocarnotite
TA6V alliage de titane : Ti- 6Al- 4V
TCP Phosphate Tricalcique
TCPa Phosphate Tricalcique Apatitique
TCPam Phosphate Tricalcique Amorphe
TTCP Phosphate Tetracalcique
Sur les graphiques :
A Apatite
C CaO
α α TCP
β β TCP
∇ CaCO3
CS CaSiO3
Les dénominations utilisées pour les différents échantillons
Dépôts magnétron :
HA*_P1 – dépôts réalisés avec les paramètres P1 : atmosphère d’argon, P=3mbar
HA*_P2 – dépôts réalisés avec les paramètres P2 : atmosphère d’argon, P=12mbar
HA*_P3 – dépôts réalisés avec les paramètres P3 : atm. : 90%Ar+10% O2, P=3mbar
*=0 ; 05 ; 1 ou c
HA0_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 0%Si
HA1_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 2.85%Si (x=1)
HA05_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 1.41%Si (x=0.5)
HAc_P* – dépôts réalisés avec une cible d’hydroxyapatite commerciale
*=1 ;2 ; 3
Dépôts plasma
A – dépôts réalisés avec granulés contenant 2.85%Si (x=1)
B – dépôts réalisés avec granulés contenant 1.41%Si (x=05)
A2 – dépôts (x=1) réalisés avec granulés de taille comprise entre 100-200μm
A3 – dépôts (x=1) réalisés avec granulés de taille comprise entre 200-315μm
A Apatite
C CaO
α α TCP
β β TCP
∇ CaCO3
CS CaSiO3
Les dénominations utilisées pour les différents échantillons
Dépôts magnétron :
HA*_P1 – dépôts réalisés avec les paramètres P1 : atmosphère d’argon, P=3mbar
HA*_P2 – dépôts réalisés avec les paramètres P2 : atmosphère d’argon, P=12mbar
HA*_P3 – dépôts réalisés avec les paramètres P3 : atm. : 90%Ar+10% O2, P=3mbar
*=0 ; 05 ; 1 ou c
HA0_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 0%Si
HA1_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 2.85%Si (x=1)
HA05_P* – dépôts réalisés avec une cible contenant 1.41%Si (x=0.5)
HAc_P* – dépôts réalisés avec une cible d’hydroxyapatite commerciale
*=1 ;2 ; 3
Dépôts plasma
A – dépôts réalisés avec granulés contenant 2.85%Si (x=1)
B – dépôts réalisés avec granulés contenant 1.41%Si (x=05)
A2 – dépôts (x=1) réalisés avec granulés de taille comprise entre 100-200μm
A3 – dépôts (x=1) réalisés avec granulés de taille comprise entre 200-315μm

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